石英玻璃在半导体制造中扮演着至关重要的角色。它广泛应用于半导体芯片制造的多个关键环节,包括单晶硅生长、晶圆加工和光刻与封装等。
石英玻璃具有高透过率、低热膨胀率、高硬度和耐久性等优异的光学特性,这使得它成为高精度光掩膜基板制造的理想选择。此外,石英玻璃具有高透过率、低热膨胀率、出色的光谱特性以及高硬度和耐久性,适用于各种半导体制造工艺。
石英玻璃的制备工艺包括熔炼石英玻璃和合成石英玻璃。熔炼石英玻璃常采用电熔工艺和气炼工艺,而合成石英玻璃则可通过化学气相沉积(CVD)、等离子化学气相沉积(PCVD)以及间接合成法等技术实现。这些工艺确保了石英玻璃的高纯度和优良性能。